CMP后自動(dòng)清洗臺(tái)
適用對(duì)象:藍(lán)寶石襯底晶片2 inch,25 Pcs/cassette; 8cassette/ Batch Or 4 inch,25Pcs/cassette, 4 cassette/ Batch or 6 inch,25 Pcs/cassette, 2cassette/ Batch ;工作原理:是利用酸的化學(xué)去污作用和兆聲清洗微小顆粒使工件表面的雜質(zhì)的清除,從而獲得表面潔凈的工件;制程應(yīng)用:拋光后制程(單面、雙面); 清洗制程;控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式;
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